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光学薄膜

反射防止膜(AR)

硝子表面の反射光はゴーストや迷光、透過率低下の原因となります。反射防止膜を施すことで、それらを解決します。極低反射防止膜や超広帯域反射防止膜、接着面用マッチングコートタイプなど各種対応可能です。

主な仕様

波長域 紫外域~可視域~赤外域
入射角度 0°~60°以上
反射率 最少0.1%~
材質 光学ガラス 光学結晶材(CaF2 Ge Si 等) 合成石英 樹脂・フィルム

主な用途

  • 放送業務用ビデオカメラ/監視防犯カメラ/赤外線カメラ/一眼レフカメラ 等
  • プロジェクター LCOS/大型プロジェクション用レンズ等
  • レーザー装置 紫外・赤外・可視域・可変ファイバー用等
  • カメラレンズ用プロテクトフィルター/レンズ保護フィルター
  • 顕微鏡/拡大鏡/天体望遠鏡/光学スコープ

主な製品

球面レンズ/非球面レンズ/プリズム/その他光学部品全般

金属膜(ミラー フィルター)

光を折り曲げるためのミラーです。波長域や光源種類で様々な選択が可能。お客様仕様に合わせて最適な組み合わせをご提案可能です。

主な仕様

波長域 紫外域~可視域~赤外域
入射角度 0°~90°以上
反射率 ~最大99%
材質 光学ガラス 光学結晶材(CaF2 Ge Si 等) 合成石英 樹脂・フィルム

主な用途

  • 放送業務用ビデオカメラ/監視防犯カメラ/赤外線カメラ/一眼レフカメラ 等
  • プロジェクター LCOS/大型プロジェクション用ミラー等
  • レーザー装置 紫外・赤外・可視域・可変ファイバー用ミラー
  • 顕微鏡/拡大鏡/天体望遠鏡/光学スコープ

主な製品

ALミラー AL増反射ミラー Auミラー Crミラー 等

誘電体多層膜(フィルター・ミラー)

光学薄膜を数十層製作することで、波長域選択や透過率・反射率を任意にコントロールすることが可能です。光学薄膜設計ソフトによるシミュレーションを元に、お客様仕様に合わせてご提案可能です。

主な仕様

波長域 紫外域~可視域~赤外域
入射角度 0°~90°以上
反射率 ~最大99.9%
材質 光学ガラス 光学結晶材(CaF2 Ge Si 等) 合成石英 樹脂・フィルム

主な用途

  • 放送業務用ビデオカメラ/監視防犯カメラ/赤外線カメラ/一眼レフカメラ 等
  • プロジェクター LCOS/大型プロジェクション用ミラー等
  • レーザー装置 紫外・赤外・可視域・可変ファイバー用ミラー
  • 顕微鏡/拡大鏡/天体望遠鏡/光学スコープ

主な製品

ダイクロイックフィルター、NDフィルター、コールドフィルター(ショートパスフィルター)、ロングパスフィルター、レーザーミラー、ダイクロイックミラー、コールドミラー、ホットミラー、ハーフミラー 等

誘電体多層膜(バンドパス 偏光)

“光学薄膜を数十層製作することで、波長域選択や透過率・反射率を任意にコントロールすることが可能です。また、材質やハイブリット膜を工夫する事で、偏光コントロールした偏光素子もご提案しております。
光学薄膜設計ソフトによるシミュレーションを元に、お客様仕様に合わせてご提案可能です。

主な仕様

波長域 紫外域~可視域~赤外域
入射角度 0°~60°以上
透過率・反射率 50:50 70:30 80:20 等 顧客仕様に合わせて任意
材質 光学ガラス 光学結晶材(CaF2 Ge Si 等) 合成石英 樹脂・フィルム

主な用途

  • 産業用計測器 測定装置 等
  • レーザー装置 紫外・赤外・可視域・可変ファイバー用等
  • 顕微鏡 工業顕微鏡 等

主な製品

バンドパスフィルター バンドパスミラー 偏光ビームスプリッター 無偏光ビームスプリッター

光学機能膜

今までの「光」をコントロールする事から、物理環境の影響をコントロールします。主には「撥水・撥油」「帯電防止」「防汚」「防曇」「硬質化」などがあります。

主な仕様

波長域 主に可視域(その他、波長域は別途ご相談)
入射角度 0°~60°以上
材質 光学ガラス 光学結晶材(CaF2 Ge Si 等) 合成石英 樹脂・フィルム

光学薄膜設計

近年の光学部品は、用途により「仕様波長」「入射角度」「透過率・反射率」「阻止条件」「硝材(材質)」などの条件が多岐にわたります。膨大な条件に合わせて、希望仕様を得られるよう加工条件の最適化が必須です。大正光学では、光学薄膜設計ソフトによる設計はもちろん、加工再現性・生産安定性・コスト低減などを考慮してご提案いたします。

主な設備・技術

光学薄膜ソフト 複数台
光学薄膜設計技術者 3名

技術情報 真空蒸着加工(光学薄膜)とは?

真空蒸着薄膜とは、真空状態で基盤表面に薄膜処理を行うことです。通常,真空蒸着装置(図-1)と呼ばれる蒸着機器を用い真空状態にて基盤表面に光学薄膜形成を行います。

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図-1 真空蒸着装置

蒸着釜内にてレンズを固定し均一な厚さの膜を作るために蒸着ドームが用いられます。蒸着ドームの大きさは、蒸着釜の大きさに比例します。

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図-2 蒸着ドーム(コーティングドーム)

真空蒸着装置内には蒸着ドームの他、コーティング材料を蒸発させるための電子銃、蒸発した材料の噴出量を調整するシャッターなどが含まれます。

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(これより以降は解説の都合上蒸着釜の扉を開けた状態で説明を続けます。実際の作業では、もちろん扉を閉めます。)
蒸着装置内には多くの空気が含まれています。

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蒸着を行う際に、蒸着釜内部に空気があると均一な蒸着膜形成が出来ないので、真空ポンプで装置内を真空状態にします。

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装置内が真空状態になったら、コーティングドームを回転させるとともに、蒸着物質に電子銃にて材料を蒸発させます。

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蒸発された材料は任意の屈折率にコントロールされ、レンズ表面へ膜の形成がされます。

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レンズ表面の蒸着膜が所定の厚さに達したら、シャッターを閉じ、材料の蒸着を停止させます。

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