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技術情報 真空蒸着加工(光学薄膜)とは?

真空蒸着薄膜とは、真空状態で基盤表面に薄膜処理を行うことです。通常,真空蒸着装置(図-1)と呼ばれる蒸着機器を用い真空状態にて基盤表面に光学薄膜形成を行います。

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図-1 真空蒸着装置

蒸着釜内にてレンズを固定し均一な厚さの膜を作るために蒸着ドームが用いられます。蒸着ドームの大きさは、蒸着釜の大きさに比例します。

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図-2 蒸着ドーム(コーティングドーム)

真空蒸着装置内には蒸着ドームの他、コーティング材料を蒸発させるための電子銃、蒸発した材料の噴出量を調整するシャッターなどが含まれます。

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(これより以降は解説の都合上蒸着釜の扉を開けた状態で説明を続けます。実際の作業では、もちろん扉を閉めます。)
蒸着装置内には多くの空気が含まれています。

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蒸着を行う際に、蒸着釜内部に空気があると均一な蒸着膜形成が出来ないので、真空ポンプで装置内を真空状態にします。

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装置内が真空状態になったら、コーティングドームを回転させるとともに、蒸着物質に電子銃にて材料を蒸発させます。

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蒸発された材料は任意の屈折率にコントロールされ、レンズ表面へ膜の形成がされます。

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レンズ表面の蒸着膜が所定の厚さに達したら、シャッターを閉じ、材料の蒸着を停止させます。

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