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真空蒸着装置(光学薄膜用)

大正光学の真空蒸着装置は、試作から量産、カメラから医療まであらゆる用途をカバーできる構成で保有しております。


主な対応範囲

波長域 紫外域~可視域~赤外域
基板種類 光学レンズ プリズム 平面板 フィルター ミラー その他異形状品 等
基板サイズ Φ0.5以下~400角以上
蒸着プロセス 加熱真空蒸着方式・イオンアシスト方式(低温真空蒸着)・イオンプレーティング方式
生産方式 バッチ式・連続加工式
蒸着物質 金属膜(AL/Au/Cr/Ni 等) 誘電体(Ta2O5/HfO2/TiO2/ZrO2/SiO2/MgF2 等) 光学機能膜(撥水材 帯電防止材 等)

主な加工装置ラインナップ

加工装置 波長域 基板サイズ 蒸着プロセス 生産方式 その他特色
大型真空蒸着機1 紫外域〜赤外域 400角以上 イオンアシスト方式 バッチ式 高品質BPF・ノンシフト膜対応
大型真空蒸着機2 近紫外域〜赤外域 400角以上 イオンアシスト方式 バッチ式 反射防止膜〜バンドパスまで高汎用機
中型真空蒸着機1 紫外域〜赤外域 300角以上 イオンプレーティング方式 バッチ式 反射防止膜〜バンドパスまで高汎用機
中型真空蒸着機2 近紫外域〜赤外域 300角以上 イオンアシスト方式 連続加工式 複数台保有・量産汎用向き
中型真空蒸着機3 近紫外域〜赤外域 300角以上 イオンアシスト方式 バッチ式 樹脂・低温蒸着・光学機能膜向き
小型真空蒸着機1 近紫外域〜赤外域 200角以上 加熱蒸着方式 バッチ式 AL・Au・Cr等の金属膜向き