真空蒸着装置（光学薄膜用）

波長域	紫外域～可視域～赤外域
基板種類	光学レンズプリズム平面板フィルターミラーその他異形状品　等
基板サイズ	Φ0.5以下～400角以上
蒸着プロセス	加熱真空蒸着方式イオンアシスト方式（低温真空蒸着）イオンプレーティング方式
生産方式	バッチ式・連続加工式
蒸着物質	金属膜（AL/Au/Cr/Ni等）誘電体（Ta2O5/HfO2/TiO2/ZrO2/SiO2/MgF2等）光学機能膜（撥水材　帯電防止材等）

大正光学の真空蒸着装置は、試作から量産、カメラから医療まであらゆる用途をカバーできる構成で保有しております。

主な加工装置ラインナップ

大型真空蒸着機1	波長域　　　：紫外域〜赤外域基板サイズ　：400角以上蒸着プロセス：イオンアシスト方式生産方式　　：バッチ式その他特色　：高品質BPF・ノンシフト膜対応
大型真空蒸着機2	波長域　　　：近紫外域〜赤外域基板サイズ　：400角以上蒸着プロセス：イオンアシスト方式生産方式　　：バッチ式その他特色　：反射防止膜〜バンドパスまで高汎用機
中型真空蒸着機1	波長域　　　：紫外域〜赤外域基板サイズ　：300角以上蒸着プロセス：イオンプレーティング方式生産方式　　：バッチ式その他特色　：反射防止膜〜バンドパスまで高汎用機
中型真空蒸着機2	波長域　　　：近紫外域〜赤外域基板サイズ　：300角以上蒸着プロセス：イオンアシスト方式生産方式　　：連続加工式その他特色　：複数台保有・量産汎用向き
中型真空蒸着機3	波長域　　　：近紫外域〜赤外域基板サイズ　：300角以上蒸着プロセス：イオンアシスト方式生産方式　　：バッチ式その他特色　：樹脂・低温蒸着・光学機能膜向き
小型真空蒸着機1	波長域　　　：近紫外域〜赤外域基板サイズ　：200角以上蒸着プロセス：加熱蒸着方式生産方式　　：バッチ式その他特色　：AL・Au・Cr等の金属膜向き